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特點

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  設備參數
  - 使用激光和高速掃描儀進行圖案制作
  - 采用1064nm皮秒激光 
  
  
  
  
  
  
  				

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  硬件
  - 與傳統(tǒng)的圖案化工藝（例如蝕刻和印刷）相比，工藝非常簡單。
  - 由于可以進行選擇性構圖，因此無需去除保護膜。
  - 在卷對卷和片材工藝中均可使用。
  - 不使用化學品的環(huán)保工藝。
  - 通過使用高速激光和掃描儀縮短圖案形成時間。
  - 銀納米線圖案前后的霧度和透明度幾乎沒有變化。
  - 不需要遮罩，因此只需更改程序即可產生各種圖案 。